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薄膜襯底

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氧化鎂(MgO)

薄膜襯底

 

主要性能參數(shù)

生長(zhǎng)方法

弧熔法

晶體結(jié)構(gòu)

立方

晶格常數(shù)

a=4.130 Å 

熔點(diǎn)(

2800

純度

99.95%

密度(g/cm3

3.58

硬度

5.5mohs

熱膨脹系數(shù)(/

11.2x10-6

晶體解理面

<100>

光學(xué)透過(guò)

>90%200~400nm),>98%500~1000nm

介電常數(shù)

ε= 9.65

熱導(dǎo)率(卡/度 厘米 秒)

0.14  300°K

尺寸

10x3,10x510x10,15x15,,20x15,20x20,

dia2”x0.33mmdia2”x0.43mm15 x15 mm

厚度

0.5mm1.0mm

拋光

單面或雙面

晶向

<001>±0.5&ordm;

晶面定向精度:

±0.5°

邊緣定向精度:

(特殊要求可達(dá)以?xún)?nèi))

斜切晶片

可按特定需求,加工邊緣取向的晶面按特定角度傾斜(傾斜角45°)的晶片

Ra:

≤5&Aring;5&micro;m×5&micro;m

主要特點(diǎn)

 由于MgO<SP